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2025-12
在真空反应技术中,LFIX-4000气体浓度配比装置的应用
作者: william威廉中文官网流体
来源: william威廉中文官网流体
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LFIX-4000气体浓度配比装置广泛应用于真空反应技术,主要涉及对无氧、无水、低压或特定气氛环境有要求的工艺。本装置面向 真空反应设备,在动态进出气运行条件下,通过显示屏触摸软件控制气体浓度配比装置的进出气流量精准维持多组分气体比例。

气体浓度配比装置实现操作端给定压强、进气流量,控制系统比较压强设定值与反应腔体实时压强值后,选择开启不同的工作管路,并通过检测检测室内传感器压力信号-PID控制出口流量阀开度--稳定压力控制方式控制真空泵排气流量和时间,从而维持进出气平衡;设备配备4种气体的完整管路、流量计,4路气源可任选进行气体混合;操作端为西门子系统,触控屏幕;超压报警:同时启动声光报警,并开启真空泵抽取体系内气体,满频运行,快速泄压.

气体浓度配比装置在真空反应技术中得到广泛应用,如化学与工业行业、制药与生物技术、及半导体材料化学气相沉积(CVD)、原子层沉积(ALD)制备薄膜。电池材料:电极材料的干燥、锂电电解液的脱水处理。纳米材料合成:控制颗粒尺寸和纯度(如量子点、碳纳米管)等。

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